Carina Gill, Loughborough Surface Analysis Ltd, 그리고 CAMECA가 공동 주최하는 웨비나에서는 50년 이상 반도체 제조 분야에서 필수적인 기술로 자리매김해 온 동적 SIMS 분석에서 이온 주입의 지속적인 중요성을 살펴봅니다.
이 세션에서는 이온 주입 특성 분석의 원리를 설명하고, 이러한 주입을 사용하여 재료 내 미지 농도를 정량화하고 모든 생산 단계에서 정밀성을 보장하는 방법을 보여줍니다.
SIMS 기술이 끊임없이 발전함에 따라, 이 웨비나는 고급 재료 분석에서 고분해능 질량 분석법을 최대한 활용하기 위한 기본 기술을 습득하는 것의 중요성을 강조합니다.
⭐ 주요 학습 내용은 다음과 같습니다.
- 반도체 제조 분야의 SIMS: 미량 오염 수준(ppb)을 포함한 모든 질량 범위를 검출하기 위해 원재료 웨이퍼부터 완제품까지 생산 공정 전반에 걸쳐 동적 SIMS가 어떻게 적용되는지 알아보세요.
- 진화하는 분석 기법: 정량 분석을 위한 이온 주입은 50년 이상 변함없이 사용되어 왔지만, SIMS 방법론은 시간이 지남에 따라 어떻게 발전해 왔는지 살펴보세요.
- 이온 주입 정량화: 이온 주입을 사용하여 동일한 재료의 미지 농도를 정량화하는 방법을 알아보세요. 이는 동적 SIMS 분석의 필수 기법입니다.
- 피해야 할 일반적인 함정: 이온 주입에서 자주 발생하는 오류를 파악하고 정확하고 신뢰할 수 있는 결과를 보장하는 모범 사례를 알아보세요.
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🎙️ 연사 소개::
카리나 길은 자기 섹터 SIMS 전문 계약 분석 연구소인 러프버러 표면 분석(Loughborough Surface Analysis Ltd.)에서 근무하고 있습니다. 셰필드 대학교에서 화학 학사 학위를 취득했으며, X선 결정학에 중점을 둔 프로젝트를 진행했습니다. LSA에서 계속 근무하는 동시에, 카리나는 현재 노팅엄 대학교에서 박사 학위를 준비하고 있습니다. 박사 학위의 목표는 티타늄 합금의 간극 종(interstitial species)을 특성화하기 위한 동적 SIMS 활용법을 개발하는 것입니다. |