Skip to content
Search

AKONIS

대량 반도체 제조를 위해 완전 자동화된 SIMS AKONIS SIMS 장비는 대량 고속 분석, 임플란트 프로파일의 고정밀 검출, 조성 분석 및 계면 데이터 제공을 통해 반도체 제조 공정의 중요한 빈틈을 메워 대량 생산을 가능하게 합니다. AKONIS는 매우 높은 수준의 자동화를 제공하여 팹 레벨의 공정 제어 및 장비간 매칭을 위해 장비간 반복성을 보장합니다.

  • AKONIS: 반도체 생산 라인에 적용된 SIMS의 우수성! +


    특성화 분석 연구실을 통해 반도체 산업을 지원하는 데 사용하는 IMS Wf/SC Ultra와 SIMS 4550(사중극자 SIMS)를 보완하는 AKONIS는 전자동 장비 셋업 및 데이터 획득 루틴을 통해 분석 감도 손상 없이 빠른 Fab 내 분석을 가능하게 해줍니다. AKONIS는 20μm까지 패드에서 측정을 가능하게 해주는 고분해능 스테이지를 포함하여 풀 웨이퍼 처리 시스템과 결합된 매우 낮은 충격 에너지(EXLIE) 이온 칼럼 기술(< 150 eV)에서 최근 개발된 장점을 활용합니다.

    N5 이상의 고수율 가능 장비
    • SiGe 및 SiP 다층 적층의 고분해능 조성 및 빠른 도펀트 깊이방향 프로파일링
    • 20μm에 이르는 타의 추종을 불허하는 패드 검출 한계
    • 공정 라인으로 데이터를 피드백하는 시간을 97% 이상 단축
    • 블랭킷 및 패턴 풀 웨이퍼 측정
    • 2μm 미만의 위치 정확도를 위한 고분해능 간섭계 스테이지와 결합된 패턴 인식 엔진
    • 우수한 재료 데이터베이스 기반으로 사용하기 쉬운 레시피 생성
    • SEMI 인증 취득(S2/S8, E4, E5, E39, E84 등)
    • 낮은 소유 비용

  • 웨비나 보기 +

    • Dynamic SIMS for Semiconductors

      목요일, 9월 16, 2021

      A review of a broad array of IC applications with Dynamic SIMS, from deep to ultra-shallow implant depth profiling in Si-based semiconductors to compositional analysis of thin multilayers in patterned wafer pads, optoelectronics, 2D and non-planar 3D structures. Speaker: Pawel Michałowski, expert-user of CAMECA SC Ultra SIMS at Łukasiewicz Research Network – Institute of Microelectronics and Photonics, Poland
      ↓ Duration : 20 minutes
      Click here to view

  • 자료 및 백서 +

  • 과학 출판물 +


    아래는 CAMECA AKONIS 사용자의 연구 기사 중 일부입니다.
    누락된 참고 문헌, PDF 및 보충 자료를 보내주시기 바랍니다!
    이메일 cameca.info@ametek.com 으로 보내주세요.

    Etching monitoring of advanced forksheet devices using AKONIS SIMS tool.     A-S. Robbes, O. Dulac, K. Soulard, M. Adier, S. Choi, D. Jacobson, A. Merkulov, R. Tilmann, P.A.W. van der Heide and A. Franquet. ISTFA Proceedings (2024)
    Read the full article

    AKONIS—SIMS Excellence Brought To The Fab. AS. Robbes; O. Dulac; K. Soulard; R. Liu; S. Choi; B. Salle; D. Jacobson. (2022). Conference Proceedings. Paper No: istfa2022p0396, pp. 396-397; 2 pages
    Read the full article
     

  • 동영상 +

    • AKONIS를 이용한 얕은 비소 임플란트 모니터링
      AKONIS https://youtu.be/6dOF9f_kZrM?si=rs0idgsP2SY-FWBB

      AKONIS 자동화 SIMS 도구는 고객 현장의 선량 균일성 제어에 있어 다른 분석 시스템보다 성능이 뛰어납니다. 이 비디오에서 이 도구는 전체 웨이퍼에 대한 얕은 비소 주입에서 1.2%의 불균일성을 측정했습니다.

    • AKONIS SIMS 툴을 사용한 로직 n-mos 생산을 위한 SiP 계측
      AKONIS-ep2

      고유한 단일 검출기 기술 덕분에 AKONIS는 실리콘의 얕은 인 임플란트에 대한 장기 안정성 모니터링을 수행합니다.

    • AKONIS SIMS 툴을 사용한 Logic p-mos의 SPC
      AKONIS https://youtu.be/MgeSfW8oRoE?si=Ipgq3zdVxtunYXYj

      검증된 단일 검출기 기술 덕분에 AKONIS 자동화된 SIMS 도구는 고객 현장에서 탁월한 장기 안정성 붕소(SiGe) 모니터링을 보장합니다.

    • AKONIS, SIMS 우수성이 팹에 도입됨
      AKONIS KR https://youtu.be/elJr2jkopjQ?si=8YMPNc8a4fKG5mdm

      고급 로직 칩의 주입량 모니터링, 트랜지스터 소스 및 드레인의 도핑 수준 제어, 패턴화된 실리콘 웨이퍼의 20μm 테스트 패드 내 구성 분석 등을 가능하게 하는 완전 자동화된 반도체 계측 도구입니다!